URE-2000/35NI納米壓印光刻機

URE-2000/35NI納米壓印光刻機 產品特征：

（1）采用積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應實現均勻照明;

（2）采用350W進口直流汞燈作光源,可調節光的能量密度;

（3）曝光波長純凈，365nm;

（4）快門可以單獨開啟,也可以數字設定自動倒計時曝光;

（5）采用三爪式自動找平技術,無論大片、小片調平精度均高;

（6）具備真空接觸曝光、硬接觸曝、接近和接觸式曝光四種模式;

（7）自動分離對準間隙和消除曝光間隙,間隙分離可達500 um;

（8）電機機構、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力;

（9）配置高倍率雙目雙視場顯微鏡與22英寸寬屏液晶顯示器,可通過顯微鏡目視和顯示器同時觀察對準過程，既滿足高精度對準,又可用于檢測曝光結果;

（10）對準完成，自動消除曝光間隙,無橫向漂移且可通過監視器觀察;

（11）上下片、版十分方便，自動化程度高，操作簡便;

（12）壓印技術采用成熟的紫外固化納米壓印制作工藝;

（13）低成本實現高分辨力納米圖形制作;

（14）“一鍵式"操作模式完成納米壓印工藝;

（15）采用高精度視頻對準技術實現復雜圖形套刻制作(兼容光刻部分);

（16）高精度驅動機構可實現納米圖形多次套刻(兼容光刻部分);

（17）照明技術實現納米圖形精準固化(兼容光刻部分);

（18）壓印模塊獨立設計,可嵌入傳統光刻設備實現納米壓印;

（19）設備性能可靠，操作界面友好，可滿足客戶個性化定制需求;

URE-2000/35NI納米壓印光刻機 主要技術參數:

（1）曝光面積：110mm×110mm

（2）光刻分辨力：1μm(膠厚1.5μm的正膠)

（3）照明不均勻性：≤3%(φ100mm范圍)

（4）照明面光強：>30mW/cm²

（5）光刻掩模尺寸：2.5、3、4、5英寸

（6）光刻基片尺寸:直徑φ15mm—φ100mm（可適應非標準片或碎片)，厚度0.1--6mm

（7）對準精度：土0.8μm，可數字設定曝光間隙和對準間隙；

（8）曝光方式：定時(倒計時方式0.1—999.9秒)；

（9）壓印分辨力：50nm（用戶提供條件)

（10）最大壓印面積：φ75mm(其余尺寸需定制)

（11）壓印掩模尺寸：3英寸、4英寸(其余尺寸需定制)

（12）壓印承片臺尺寸：2英寸、3英寸（其余尺寸需定制）

（13）紫外固化光源：與光刻部分兼容；

（14）其他：壓印壓力及紫外固化時間均可精準控制；