美國NXQ紫外掩膜光刻機作用原理是怎樣的

　　光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。其中光刻系統被稱為光刻機，帶有圖形的石英板稱為掩膜，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。

　　美國NXQ紫外掩膜光刻機原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。

　　美國NXQ紫外掩膜光刻機一般根據操作的簡便性分為三種類型：

　　手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；

　　半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；

　　自動：指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

　　美國NXQ紫外掩膜光刻機性能指標有以下這些？

　　對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

　　分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。

　　曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

　　曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。